高温化学气相沉积设备

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

提供了用于在至少700℃的温度和100托下操作的反应室内沉积一层或多层到衬底或独立式形状上的设备和方法的实施方案。该设备配备有工件，用于在反应室中限定使反应物进料预反应形成至少气态形式的反应前体的体积空间，并与用于由反应的前体在衬底上沉积均匀厚度的涂层的沉积区分开。在一个实施方案中，限定该两个不同区的工件包含分布介质。在另一个实施方案中，该工件包含多个反应物进料喷头或注射器。在另一个实施方案中，该设备配备进料系统，进料系统具有在空间上隔开的适合多种气相物质分布的注射工件，形成沿衬底表面厚度和化学组成基本均匀的沉积物。在一个实施方案中，该设备进一步包含牺牲性衬底，牺牲性衬底进一步帮助在衬底上获得厚度和化学均匀性。

基本信息

专利标题：

高温化学气相沉积设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101184865A

申请号：

CN200680005380.1

公开（公告）日：

2008-05-21

申请日：

2006-02-13

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

穆拉利德哈兰·拉克什米帕蒂迪米特里厄斯·萨勒扬尼斯帕特里夏·哈伯德马克·舍佩肯斯阿图尔·潘特

申请人：

莫门蒂夫功能性材料公司

申请人地址：

美国纽约

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

王海川

优先权：

CN200680005380.1

主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/455