一种化学气相沉积设备
授权
摘要
本实用新型实施例公开了一种化学气相沉积设备，包括工艺腔室和封闭装置，其中，工艺腔室包括：容纳空间和样品入口；封闭装置用于封闭或打开样品入口，封闭装置封闭样品入口时，封闭装置靠近容纳空间的表面与工艺腔室开设有样品入口的第一侧壁的内侧共面。本实用新型实施例的技术方案可以避免等离子体在封闭装置处囤积的情况发生，进而使得工艺腔室内各处的等离子体的浓度相同，样品各处沉积的膜层厚度均匀一致。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020052652.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-10
授权号 ：
CN211256086U
授权日 ：
2020-08-14
发明人 ：
梁吉磊李广超马雪峰
申请人 ：
合肥维信诺科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站区魏武路与新蚌埠路交口西南角
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
范坤坤
优先权 ：
CN202020052652.0
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2020-08-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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