石墨舟和化学气相沉积设备
授权
摘要

本实用新型提供一种石墨舟和化学气相沉积设备,包括沿第一方向间隔设置的多片舟片,且各舟片的用于接触被加工工件的第一面与第一方向相互垂直,多片舟片在第一方向上划分为内片组和位于该内片组两侧的两组外片组,其中,各外片组包括至少一片舟片,且为外片,内片组包括至少一片舟片,且为内片,并且各外片在第一方向上的厚度大于各内片在第一方向上的厚度。本实用新型提供的石墨舟,其不仅可以减小各舟片上被加工工件之间的温度差异,提高各舟片间的薄膜厚度均匀性,而且可以减少能源浪费,提高产能。

基本信息
专利标题 :
石墨舟和化学气相沉积设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921882325.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-04
授权号 :
CN211689232U
授权日 :
2020-10-16
发明人 :
申震闫志顺薛宝达
申请人 :
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 :
北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 :
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 :
彭瑞欣
优先权 :
CN201921882325.1
主分类号 :
C23C16/50
IPC分类号 :
C23C16/50  C23C16/52  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2020-10-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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