化学气相沉积镀膜设备布气装置
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摘要

本实用新型公开了一种化学气相沉积镀膜设备布气装置,包括布气盒、上层布气管、下层布气管,布气盒为由真空室盖板、布气框以及靠近基片侧的布气板组成的一个封闭盒体,上层布气管、下层布气管均由进气管、方通管、导流管道组成,进气管穿过一侧布气框与设置在布气盒内的方通管连通,导流管道均布在方通管相互平行的两条管道之间,导流管道两端与方通管连通,导流管道上均匀分布有多个布气微孔,上层布气管的导流管道与下层布气管的导流管道交错布置,在布气板上分布有多个喷气嘴。本实用新型可将多种工艺气体混合后均匀的喷淋到基片的表面,可以做到大面积均匀喷淋布气,实现化学气相沉积设备获得大面积、均匀性、一致性的膜层镀膜。

基本信息
专利标题 :
化学气相沉积镀膜设备布气装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921758194.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-20
授权号 :
CN210657127U
授权日 :
2020-06-02
发明人 :
刘国利周毅李国强
申请人 :
湖南玉丰真空科学技术有限公司
申请人地址 :
湖南省湘潭市九华示范区大众东路2号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921758194.6
主分类号 :
C23C16/455
IPC分类号 :
C23C16/455  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-06-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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