等离子体气相沉积镀膜设备
授权
摘要

本实用新型公开一种等离子体气相沉积镀膜设备,包括沉积室和射频电源,射频电源设置在沉积室外,沉积室内设置有电极板,射频电源与电极板电连接,射频电源包括壳体和电源本体,电源本体设置在壳体的内腔内,壳体设置有与内腔连通的第一进风口和第一出风口,第一进风口与第一吹风机连通,第一进风口设置有气体过滤器。第一吹风机可以将射频电源外的气体吹入内腔内,使得内腔内的气体能够从第一出风口处离开内腔,从而促进内腔内气体的流动,实现对电源本体进行降温,避免电源本体堆积过多的热量,从而降低射频电源因高温而引起的噪音;气体过滤器,可以对进入内腔的气体进行过滤,使得内腔可以保持洁净。

基本信息
专利标题 :
等离子体气相沉积镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122664180.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-02
授权号 :
CN216192696U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
黄章华
申请人 :
乐金显示光电科技(中国)有限公司
申请人地址 :
广东省广州市高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
刘国萍
优先权 :
CN202122664180.1
主分类号 :
C23C16/507
IPC分类号 :
C23C16/507  C23C16/54  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/505
采用射频放电
C23C16/507
采用外电极,例如在隧道式反应器中
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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