气相沉积设备
授权
摘要
本实用新型公开一种气相沉积设备，包括沉积室、预抽管道、节流阀、节流阀控制器和冷却装置，预抽管道连通于沉积室，节流阀设置于预抽管道中，节流阀控制器设置于预抽管道外并连接于节流阀，冷却装置包括进气总管、分气管和若干分支管道，进气总管连通于供气装置，用于引入冷却气体；分气管的进气口连通于进气总管，分气管具有若干出气口；若干分支管道沿第一方向间隔设置，每个分支管道环设于节流阀控制器的外周，若干分支管道与若干出气口一一对应连通，分支管道上开设有喷气口，喷气口朝向节流阀控制器设置。该气相沉积设备的节流阀控制器的冷却效率较高，冷却效果好，保证节流阀控制器的通信正常，从而保证气相沉积设备的正常工作和工作效率。
基本信息
专利标题 ：
气相沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122790961.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-15
授权号 ：
CN216192697U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
赵曈济
申请人 ：
乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
黄建祥
优先权 ：
CN202122790961.5
主分类号 ：
C23C16/52
IPC分类号 ：
C23C16/52 H05K7/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/52
镀覆工艺的控制或调整
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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