气相沉积平台
授权
摘要
本实用新型公开了一种气相沉积平台，包括不锈钢平台，所述不锈钢平台上设置有安装柱，所述安装柱上设有石英天花板，所述安装柱的端部设有将石英天花板卡固的卡环；所述石英天花板上设有晶相沉积的、增加表面粗糙度的喷砂层。通过喷砂层的设计来增强晶相沉积时的粗糙度，延长石英天花板的更换周期时间，喷砂层上沉积的化合物更加牢固，降低成本。
基本信息
专利标题 ：
气相沉积平台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022455240.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-29
授权号 ：
CN213570822U
授权日 ：
2021-06-29
发明人 ：
孙飞
申请人 ：
苏州尚勤光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区唯新路91号2号楼236室
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王春丽
优先权 ：
CN202022455240.4
主分类号 ：
C30B25/12
IPC分类号 ：
C30B25/12 C30B25/18
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长，例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/12
衬底夹持器或基座
法律状态
2021-06-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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