一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备
授权
摘要
本实用新型涉及微波等离子体加工技术领域，且公开了一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，包括镀膜设备本体，所述镀膜设备本体底部的两侧分别固定安装有进气软管和出气软管，所述进气软管的一侧固定套接有控制座，所述控制座的前侧固定安装有支撑板。该微波等离子体化学气相沉积镀膜设备，通过进气软管的一侧设有控制座，再通过进气软管的下方设有移动滚筒，便于在旋转旋转套时能够带动旋转套在螺纹杆上移动且自转，便于带动连接杆上的移动滚筒在控制座的内腔里移动，通过螺纹杆和控制座之间的角度关系，便于改变移动滚筒对进气软管的挤压程度，从而改变经过进气软管进入到镀膜设备本体内腔里气体的流量。
基本信息
专利标题 ：
一种微波等离子体化学气相沉积镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021936167.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-07
授权号 ：
CN213803978U
授权日 ：
2021-07-27
发明人 ：
因福明沈杰
申请人 ：
昆山福钻新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市周庄镇崇远路333号A2幢2楼211室
代理机构 ：
南京纵横知识产权代理有限公司
代理人 ：
董成
优先权 ：
CN202021936167.6
主分类号 ：
C23C16/511
IPC分类号 ：
C23C16/511 C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/511
采用微波放电
法律状态
2021-07-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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