一种内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统。所述内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统，包括：多个真空抽气及充气组件，位于所述多个真空抽气及充气组件上方的微波组件；所述真空抽气及充气组件为可移动真空抽气及充气组件，用于对所述容器的内部抽真空以及充入工作气体以及通过移动与所述微波组件实现切换配合；所述微波组件用于与各个所述真空抽气及充气组件配合以实现微波等离子体化学气相沉积。本实用新型所述微波组件能够在多个真空抽气及充气组件之间切换，免除了放气、取样及抽真空时微波组件的闲置问题，可以实现微波等离子体化学气相连续沉积，且无需增加成本最高的微波组件，效率即可提升。
基本信息
专利标题 ：
一种内壁镀膜用微波等离子体化学气相快速沉积系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021467856.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-22
授权号 ：
CN213172565U
授权日 ：
2021-05-11
发明人 ：
孙耀明彭晓华陈寿王鑫李彦灼刘晓东江俊灵肖艳苹
申请人 ：
深圳市八六三新材料技术有限责任公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区龙岗大道(坪地段)1001号
代理机构 ：
深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
朱阳波
优先权 ：
CN202021467856.7
主分类号 ：
C23C16/511
IPC分类号 ：
C23C16/511 C23C16/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/511
采用微波放电
法律状态
2021-05-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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