一种微波等离子体化学气相沉积设备
授权
摘要
本实用新型涉及微波等离子体化学气相沉积领域，一种微波等离子体化学气相沉积设备，包括微波源、波导、模式转换器、谐振腔，所述的模式转换器中的微波天线包含芯体和表层，还包括气体系统，用于将气体导入、导出谐振腔，还包括基板保持部件，通过改善微波等离子体化学气相沉积设备设计，改良微波天线的设计，可以有效提升微波等离子体化学气相沉积设备的长期使用的稳定性，减少了在生产过程中的不稳定性，有利于提高产品质量。特别是对于在生产过程中对于温度稳定性要求高的产品，如金刚石，该设备能有效提高产品的品质，提升其经济价值。
基本信息
专利标题 ：
一种微波等离子体化学气相沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020502825.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-09
授权号 ：
CN214060635U
授权日 ：
2021-08-27
发明人 ：
范杰黄翀
申请人 ：
长沙新材料产业研究院有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市岳麓区麓谷企业广场B8栋7楼
代理机构 ：
武汉智汇为专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李恭渝
优先权 ：
CN202020502825.4
主分类号 ：
C23C16/27
IPC分类号 ：
C23C16/27 C23C16/511 H01P1/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
C23C16/27
仅沉积金刚石
法律状态
2021-08-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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