一种靶材气相沉积镀膜夹具
授权
摘要
本实用新型涉及一种靶材气相沉积镀膜夹具，所述夹具包括：托板、卡板及支盘；所述托板设置于所述支盘的上表面；所述托板的背面和支盘的夹角为60‑75°；所述卡板设置于所述托板正面的底端；所述支盘连接有转动装置。本实用新型中，通过对靶材镀膜夹具的合理设计，将靶材托板倾斜一定角度后，解决了物理气相沉积的镀膜中存在的应力不均及金属层分布不均匀的问题，为焊接层物理气相沉积提供可能。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材气相沉积镀膜夹具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020877241.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-22
授权号 ：
CN212375371U
授权日 ：
2021-01-19
发明人 ：
姚力军潘杰边逸军王学泽滕俊
申请人 ：
宁波江丰电子材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
王岩
优先权 ：
CN202020877241.5
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-01-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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