组合原料载具以及气相沉积镀膜装置
专利申请权、专利权的转移
摘要

一种组合原料载具,其包括具有原料承载室的载具以及安装在所述载具上的蒸发促进装置,其中所述蒸发促进装置设有与所述原料承载室相连通且上下贯穿的若干镂孔以及将所述若干镂孔隔开的孔壁。本实用新型还涉及一种具有前述组合原料载具的气相沉积镀膜装置。相较于现有技术,本实用新型通过设置安装在载具上的蒸发促进装置,所述蒸发促进装置吸收载具受热后的热辐射,从而能够对每个镂孔中的原料进行更为均匀的加热,提高了蒸发速率,缩短了建压时间,提高了镀膜生产效率。

基本信息
专利标题 :
组合原料载具以及气相沉积镀膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921481558.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-06
授权号 :
CN210529055U
授权日 :
2020-05-15
发明人 :
何宝东王凯宋文庆盛兆亚张建飞
申请人 :
苏州沃盾纳米科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市花桥镇金洋路15号1号楼
代理机构 :
苏州佳博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
罗宏伟
优先权 :
CN201921481558.0
主分类号 :
C23C16/458
IPC分类号 :
C23C16/458  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-03-02 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 16/458
登记生效日 : 20210218
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 苏州沃盾纳米科技有限公司
变更后权利人 : 立讯电子科技(昆山)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 215300 江苏省苏州市昆山市花桥镇金洋路15号1号楼
变更后权利人 : 215324 江苏省苏州市昆山市锦溪镇锦昌路158号
2020-05-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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