本实用新型提供一种用于等离子体增强化学气相沉积工艺中的载具，包括空心支架和刚性狭缝，所述刚性狭缝由平行设置的两块矩形板限定、且所述刚性狭缝水平放置在所述空心支架上方。本实用新型的载具，由空心支架支撑刚性狭缝组成，放置在CVD炉的冷端的等离子体区域，石墨烯生长衬底平行穿过所述刚性狭缝，利用刚性狭缝的上矩形板可以有效地对冷端产生的非碳沉积物进行遮挡，提高石墨烯薄膜质量。石墨烯生长衬底水平通过刚性狭缝，可以防止生长衬底发生偏移或倾斜，得到表面生长均匀的高质量石墨烯薄膜产品。该载具结构简单，操作方便，适用于不同尺寸大小的CVD装备，解决现有石墨烯制备过程中由于衬底污染导致的石墨烯薄膜质量差的问题。