本实用新型公开了一种等离子增强化学气相沉积装置，包括机架，所述机架顶部设置有反应室，所述反应室顶部密封设置有封盖，所述封盖顶部设置有气体分配装置，所述机架侧面上设置有特气箱，所述特气箱通过气管与气体分配装置连接。本实用新型结构合理、简单，操作便捷，通过将硅晶片输送经反应室内，通过真空装置使得反应室内部呈现真空的状态，气体分配装置将特气箱中输送过来的各种化学气体进行处理并输入至反应室内对硅晶片的表面进行化学处理，从而大大的提高了化学处理的效率。