本实用新型公开了一种化学气相沉积设备，包括炉管和放置于所述炉管内的晶舟，所述晶舟包括第一端部和与所述第一端部相对的第二端部，在所述第一端部和第二端部之间具有多个相互平行的、用于放置晶片的晶片插槽，且每个所述晶片插槽具有至少两个相互分离、用于支撑晶片的支撑架，其中，每一个所述支撑架所在的平面向所述第一端部所在的平面倾斜第一角度。本实用新型还公开了对应的一种应用于化学气相沉积设备的晶舟。采用本实用新型的化学气相沉积设备及其晶舟，可以有效解决晶片在化学气相沉积后水平检测不过关的问题。