一种化学气相沉积装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种化学气相沉积装置，包括：壳体，所述壳体内具有沉积腔；第一电极，所述第一电极伸入所述沉积腔内；第二电极，所述第二电极伸入所述沉积腔内，所述第二电极与所述第一电极相对设置；所述第一电极和所述第二电极用于使电流流经衬底，产生热量。本实用新型的化学气相沉积装置，电流直接流经需要气相沉积的衬底，使衬底自身直接发热，避免了间接加热产生的热量损失，不仅电效率高，而且升温速度快。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922245061.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-13
授权号 ：
CN211872085U
授权日 ：
2020-11-06
发明人 ：
黄启忠胡祥龙蔡昌海周岳兵刘庆敖
申请人 ：
中南大学;湖南顶立科技有限公司;安徽弘昌新材料有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市岳麓山左家垅
代理机构 ：
北京中政联科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郑久兴
优先权 ：
CN201922245061.5
主分类号 ：
C23C16/46
IPC分类号 ：
C23C16/46
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/46
以加热基体的方法为特征的
法律状态
2020-11-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
