一种化学气相沉积装置
授权
摘要
本实用新型提供化学气相沉积装置，包括炉体、加热装置和供气装置，所述炉体内设有反应腔室，所述反应腔室中设有工件放置台和所述加热装置；所述供气装置设置包括供气管，所述供气管的一端位于所述反应腔室内，所述供气管的另一端由所述炉体的底壁伸出至所述反应腔室外，且所述供气管呈竖直设置；所述反应腔室内设有导风板，所述导风板的一端连接在所述炉体的内侧壁上，所述导风板的另一端向所述反应腔室的中部延伸，且所述导风板的另一端朝所述反应腔室的上侧倾斜。本申请实施例提供的化学气相沉积装置，能使碳源气体有充足的时间发生化学反应，减少碳源气体的浪费。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122834059.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-18
授权号 ：
CN216337952U
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
康志卫陈志军王伟曹卫
申请人 ：
湖南诺沃科技有限公司
申请人地址 ：
湖南省岳阳市汨罗市弼时镇汉山路南侧
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122834059.9
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 C23C16/26 C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2022-04-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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