等离子沉积下料设备

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摘要

本实用新型公开一种等离子沉积下料设备，包括等离子体沉积室，等离子体沉积室出口连接有下料装置，其包括与等离子体沉积室出口处连接的下料管道，下料管道由延伸有若干子管道，子管道与下料管道之间密封连接有阀门，子管道的弯折处以及出口处的外壁上固定有电磁铁组，电磁铁组包括正极电磁铁和负极电磁铁。子管道出口处还密封连接有一个抽气风机。相比现有技术，本实用新型的优点在于：电磁铁组的设置能够将带有正电的离子和带有负电的离子分开来进行下料，便于分类，可下料至不同的应用场合中，且由于子管道的设置，可以同时进行多个通道下料，增加下料效率；增设的过滤棉机构能够防止外部的微尘颗粒进入，影响沉积效果。

基本信息

专利标题：

等离子沉积下料设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020159783.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-02-10

授权号：

CN211062683U

授权日：

2020-07-21

发明人：

董海清申鹏

申请人：

深圳市创智捷科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区航城街道钟屋社区钟屋工业区梅洲五洲电路板厂101号47栋

代理机构：

无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

汪建华

优先权：

CN202020159783.9

主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/32 C23C16/513