等离子体处理设备
专利权的终止
摘要
一种用于在维持于真空状态的室中产生等离子体并使用所述等离子体处理基板的等离子体处理设备。所述等离子体处理设备包括在淋浴头中形成的用于使制冷剂循环的制冷剂通道，从而容易地控制淋浴头的温度并改善等离子体处理的再现性。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1802066A
申请号 ：
CN200510130190.X
公开（公告）日 ：
2006-07-12
申请日 ：
2005-12-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李荣钟崔浚泳曹生贤黄荣周金钟千
申请人 ：
爱德牌工程有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐谦
优先权 ：
CN200510130190.X
主分类号 ：
H05H1/24
IPC分类号 ：
H05H1/24 H01L21/00 F25D16/00 H01J37/32
相关图片
法律状态
2017-02-08 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101701027411
IPC(主分类) : H05H 1/46
专利号 : ZL200510130190X
申请日 : 20051219
授权公告日 : 20090708
终止日期 : 20151219
号牌文件序号 : 101701027411
IPC(主分类) : H05H 1/46
专利号 : ZL200510130190X
申请日 : 20051219
授权公告日 : 20090708
终止日期 : 20151219
2009-07-08 ：
授权
2006-09-06 ：
实质审查的生效
2006-07-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1802066A.PDF
PDF下载
2、
CN100512591C.PDF
PDF下载
