PCB等离子体处理设备及其控制方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种PCB等离子体处理设备及其控制方法，属于PCB等离子处理领域，本PCB等离子体处理设备包括：机架；处理腔室，处理腔室设置在机架上，处理腔室上开设有第一开口和第二开口，处理腔室用于对PCB制品进行等离子体处理；进料腔室，进料腔室设置在机架上，进料腔室通过第一开口与处理腔室连通，进料腔室上开设有进料开口；卸料腔室，卸料腔室设置在机架上，卸料腔室通过第二开口与处理腔室连通，卸料腔室上开设有卸料开口；若干密封门，若干密封门分别可活动地设置在第一开口、第二开口、进料开口和卸料开口上，密封门用于开启和关闭对应开口；以及真空装置，处理腔室、进料腔室和卸料腔室均分别与真空装置连接。
基本信息
专利标题 ：
PCB等离子体处理设备及其控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114430621A
申请号 ：
CN202111451437.3
公开（公告）日 ：
2022-05-03
申请日 ：
2021-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郭明亮易先德
申请人 ：
珠海安普特科技有限公司
申请人地址 ：
广东省珠海市南屏科技工业园屏东五路5号厂房102室
代理机构 ：
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 ：
张龙哺
优先权 ：
CN202111451437.3
主分类号 ：
H05K3/26
IPC分类号 ：
H05K3/26 H05K3/00
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H05K 3/26
申请日 : 20211201
申请日 : 20211201
2022-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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