等离子体处理装置和等离子体处理方法
公开
摘要
本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括处理容器、气体供给部、电功率供给部和控制装置。处理容器收纳基片。气体供给部向处理容器内供给处理气体。电功率供给部通过向处理容器内供给电功率，来从被供给到处理容器内的处理气体生成等离子体，用所生成的等离子体来处理基片。控制装置控制电功率供给部。并且，控制装置执行以下步骤：步骤a，在从处理气体生成等离子体时，控制电功率供给部，以向处理容器内供给包含第一带宽的频带中所含的频率成分的电功率；步骤b，在用所生成的等离子体处理基片时，控制电功率供给部，以向处理容器内供给包含第一带宽以下的第二带宽的频带中所含的频率成分的电功率。根据本发明，能够更可靠地生成等离子体并且稳定地维持等离子体。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理装置和等离子体处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114302547A
申请号 ：
CN202111141272.X
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-09-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金子和史
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN202111141272.X
主分类号 ：
H05H1/46
IPC分类号 ：
H05H1/46
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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