等离子体处理装置、狭缝天线和等离子体处理方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供利用液体的冷却介质冷却电介质的等离子体处理装置、狭缝天线以及等离子体处理方法。微波等离子体处理装置(100)由处理容器(10)、导波管(22)、狭缝天线(23)、电介质(24)、第一冷却部(60)和第二冷却部(80)构成。第一冷却部(60)通过使液体的冷却介质在设在狭缝天线(23)上的流路(61)中流动，冷却电介质(24)。此外，第二冷却部(80)通过使气体从设在导波管(22)上的气体入口流到气体出口，冷却电介质(24)。由此，通过一边冷却电介质(24)，一边利用经由导波管(22)、狭缝天线(23)而透过电介质(24)的微波使处理气体等离子体化，由此基板(W)被等离子体处理。结果，在等离子体处理中可以防止电介质(24)上产生裂纹。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理装置、狭缝天线和等离子体处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1849034A
申请号 ：
CN200610065521.0
公开（公告）日 ：
2006-10-18
申请日 ：
2006-03-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
堀口贵弘
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN200610065521.0
主分类号 ：
H05H1/46
IPC分类号 ：
H05H1/46 H05H1/00 C23C16/50 C23C16/44 H01L21/3065
法律状态
2010-03-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-12-13 ：
实质审查的生效
2006-10-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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