等离子体处理装置及等离子体处理方法
公开
摘要
本发明涉及等离子体处理装置及等离子体处理方法，能保证等离子体的稳定性且能高速地进行匹配。等离子体处理装置具备：腔室内的基板支承台内部的第一电极、与第一电极连接的匹配器和高频电源、及控制部，匹配器具有：下位电路，将多个下位串联电路并联连接而成；和上位电路，将多个上位串联电路并联连接而成，控制部控制匹配器，以将下位串联电路或上位串联电路的开关元件设定为接通或断开状态而设定下位电路或上位电路中的一方电路；控制匹配器进行待机，直到根据设定而变化的从匹配器观察到腔室侧的阻抗的变化量稳定为止；将下位串联电路或上位串联电路的开关元件设定为接通或断开状态而设定下位电路或上位电路中的另一方电路。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理装置及等离子体处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114496709A
申请号 ：
CN202111337987.2
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-11-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吉田绚河野和则
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
吕琳
优先权 ：
CN202111337987.2
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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