等离子体处理系统和等离子体处理方法
公开
摘要
一种处理系统(100)具有用于对至少一个基板进行动态或静态处理的处理室(101)。一种电感耦接等离子体源ICP源(120、120')包括：至少一个电感器(130a、130b)，所述至少一个电感器(130a、130b)沿所述ICP源(120、120')的纵向方向延伸；供气装置(141、142)，所述供气装置(141、142)用于一种或多种处理气体；以及设置在所述处理室(101)中的气体引导布置(150)，所述气体引导布置(150)沿所述ICP源(120、120')的所述纵向方向延伸并且部分地围绕所述至少一个电感器(130a、130b)。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理系统和等离子体处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114503239A
申请号 ：
CN202080069621.9
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-08-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
弗兰克·梅伯恩哈德·科德西蒙·赫布纳彼得·沃尔法特
申请人 ：
新格拉斯科技集团
申请人地址 ：
德国美茵河畔卡勒63796号哈瑙尔大街103号
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN202080069621.9
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 C23C16/52 C23C16/505 C23C16/50
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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