等离子体发生装置及等离子体处理方法
实质审查的生效
摘要
等离子体发生装置具备：装置主体，形成有用于使处理气体等离子体化的反应室；陶瓷制的喷嘴，形成有用于喷出在反应室中被等离子体化的等离子体气体的第一喷出口；及金属制的喷嘴罩，以覆盖第一喷出口的方式形成有第二喷出口，上述第二喷出口用于以覆盖等离子体气体的方式喷出气体。
基本信息
专利标题 ：
等离子体发生装置及等离子体处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114430935A
申请号 ：
CN201980100638.3
公开（公告）日 ：
2022-05-03
申请日 ：
2019-09-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
池户俊之岩田卓也白木聪一
申请人 ：
株式会社富士
申请人地址 ：
日本爱知县知立市
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
杨青
优先权 ：
CN201980100638.3
主分类号 ：
H05H1/26
IPC分类号 ：
H05H1/26
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H05H 1/26
申请日 : 20190927
申请日 : 20190927
2022-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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