天线单元及包括该天线单元的等离子体处理装置
授权
摘要
本实用新型提供一种天线单元及包括该天线单元的等离子体处理装置，能够消除在腔室内部可能产生的等离子体。天线单元用于在工艺空间生成等离子体，其包括：第一天线模块，一端设置有能够输入电力的第一输入端，通过所述第一输入端输入的电流流向第一方向；第二天线模块，一端设置有能够输入电力的第二输入端，通过所述第二输入端输入的电流流向所述第一方向，所述第二输入端在所述第一天线模块的主体侧方隔开配置，且其至少一部分与所述第一天线模块形成重叠区域，其中，在所述重叠区域下侧，所述等离子体的密度升高。因此，通过局部提升等离子体密度，能够消除用于基板处理的等离子体的不均衡，从而可以制备优质的基板。
基本信息
专利标题 ：
天线单元及包括该天线单元的等离子体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920842957.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-05
授权号 ：
CN210518976U
授权日 ：
2020-05-12
发明人 ：
金周晚金荣学朴敬浩申圣德
申请人 ：
INVENIA有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京鸿元知识产权代理有限公司
代理人 ：
姜虎
优先权 ：
CN201920842957.9
主分类号 ：
H05H1/46
IPC分类号 ：
H05H1/46
法律状态
2020-05-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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