支撑单元、包括支撑单元的基板处理设备以及温度控制方法
实质审查的生效
摘要
一种支撑单元可以包括：多个加热器，所述多个加热器以矩阵形式设置在所述支撑单元中以加热基板；以及电源单元，所述电源单元用于向所述多个加热器供应电力，其中施加到所述多个加热器的电流由分别连接到所述矩阵的行和列的开关控制，并且连接到所述矩阵的所述行的所述开关包括能够控制施加到所述矩阵的所述行的电流的第一开关和与所述第一开关并联连接的第二开关。
基本信息
专利标题 ：
支撑单元、包括支撑单元的基板处理设备以及温度控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114554629A
申请号 ：
CN202111396164.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李忠禹朴仁奎张容硕全盛鍊
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
钟锦舜
优先权 ：
CN202111396164.7
主分类号 ：
H05B1/02
IPC分类号 ：
H05B1/02
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H05B 1/02
申请日 : 20211123
申请日 : 20211123
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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