基板处理设备和基板支撑单元
公开
摘要
本发明构思涉及一种设置在用于使用等离子体处理基板的设备中的基板支撑单元。在一个实施例中，所述基板支撑单元包括：其上放置所述基板的电介质板、设置在所述电介质板下方并具有第一直径的下电极、将RF功率施加到所述下电极并具有第二直径的电源杆、以及设置在所述下电极下方并通过绝缘构件与所述下电极间隔开第一间隙的接地构件，所述接地构件包括板部分，在所述板部分中形成有供所述电源杆所穿过的通孔，其中所述通孔具有第三直径。
基本信息
专利标题 ：
基板处理设备和基板支撑单元
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114628215A
申请号 ：
CN202111384124.0
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2021-11-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
孙亨圭安宗焕曺在玄裵珉槿金东奭金铉珪O·嘉尔斯蒂安李元硕金成帝
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
杨黎峰
优先权 ：
CN202111384124.0
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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