等离子体处理设备及使用其的等离子体监测方法
公开
摘要
本公开涉及一种能够监测等离子体的等离子体处理设备及使用所述等离子体处理设备的等离子体监测方法。所述等离子体处理设备包括：第一电极，待处理物体支撑在第一电极上；第二电极，被设置成面向第一电极；供电单元，被配置成将功率供应到第一电极；测量单元，被配置成测量第二电极的电压Vdc；以及确定单元，被配置成依据第二电极的电压确定待处理物体的自偏压。本公开涉及提高对等离子体状态的测量准确性的效果。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理设备及使用其的等离子体监测方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114628208A
申请号 ：
CN202111500206.7
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2021-12-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
辛东烈崔城源朴俊雨赵显埈
申请人 ：
AP系统股份有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道华城市东滩面东滩产团8便道15-5
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
郑乐
优先权 ：
CN202111500206.7
主分类号 ：
H01J37/244
IPC分类号 ：
H01J37/244 H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/244
检测器；所采用的组件或电路
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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