一种等离子体处理设备
授权
摘要
本实用新型实施例公开了一种等离子体处理设备。包括反应腔室，反应腔室包括相对设置的顶部和底部，还包括：上电极和下电极，上电极位于下电极和顶部之间，下电极位于上电极和底部之间；挡板，位于上电极和底部之间，且围绕下电极设置；挡板上设置有多个开孔；抽气泵，位于反应腔室外，底部设置有排气孔，抽气泵与排气孔连接。本实用新型实施例提供的技术方案可以促进反应腔室内气流流动，改善异物堆积问题，降低反应进程中产生异物不良的现象的风险。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子体处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022474308.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-30
授权号 ：
CN213519855U
授权日 ：
2021-06-22
发明人 ：
金熙中
申请人 ：
乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
孟金喆
优先权 ：
CN202022474308.3
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2021-06-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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