冷等离子体表面处理设备及其处理工艺
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及一种利用冷等离予体对材料表面进行处理的设备及其处理工艺。其主要特点是采用直流辉光放电中较长的正柱区产生冷等离予体，并利用它对材料表面进行处理。真空室的两端各设一个电极。如真空室中需要传动装置，则真空室两端还设有支撑板，支撑板之间装有若干根转轴和一根主动传动轴。主动传动轴带动被处理材料通过放电区。本发明具有结构简单、造价低、易于大规模工业生产、无电磁污染和处理效果好等优点。
基本信息
专利标题 ：
冷等离子体表面处理设备及其处理工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1050885A
申请号 ：
CN89107909.2
公开（公告）日 ：
1991-04-24
申请日 ：
1989-10-10
授权号 ：
CN1033283C
授权日 ：
1996-11-13
发明人 ：
林立中
申请人 ：
福州大学
申请人地址 ：
350002福建省福州市工业路西禅寺
代理机构 ：
福建省专利事务所
代理人 ：
林捷华
优先权 ：
CN89107909.2
主分类号 ：
D06M10/00
IPC分类号 ：
D06M10/00 C03C25/00
IPC结构图谱
D
D部——纺织；造纸
D06
织物等的处理；洗涤；其他类不包括的柔性材料
D06M
对纤维、纱、线、织物、羽毛或由这些材料制成的纤维制品进行D06类内其他类目所不包括的处理
D06M10/00
纤维、纱、线、织物或这些材料制成的纤维制品的物理处理，如超声波，电晕放电，辐射，电流或磁场； 同化合物或化学元素处理相结合的物理处理
法律状态
1998-12-02 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1996-11-13 ：
授权
1992-03-11 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1991-04-24 ：
公开
1990-03-07 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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