本实用新型公开了一种真空等离子体表面处理设备，包括处理箱、传动装置、驱动装置和限位装置，所述处理箱内部的两侧均设有传动装置两组所述传动装置之间设有两组挡板，两组所述挡板与处理箱之间构成真空腔，所述处理箱顶部安装有与真空腔连通的真空泵，所述处理箱内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽，真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置，其中一组所述挡板与传动装置之间设有限位板，所述限位板远离处理箱的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽，限位槽的两侧均挖设有滑动轨道，两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置。该真空等离子体表面处理设备，能够适应不同厚度的材料，同时能够提高处理的效率。