射频多电容耦合等离子体表面处理设备
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明提供一种射频多电容耦合等离子体表面处理设备,包括一个壳体、真空室、射频电源、进气和抽气系统,其中,在壳体上部安装一真空室,中部安装射频电源、真空计和气体阀门,在壳体底部空间或一侧放置真空泵,在真空室正面设有带玻璃观察窗的开启门,在真空室内的中部设有一与真空室壁绝缘的平板射频电极,在该射频电极的两侧分别对称分布有平板悬浮电极和平板地电极,该射频电极与射频电源连接,该平板地电极与壳体连接并接地,需要处理的材料和需要消毒的器械可以放置在电极之间通过等离子体消毒。该设备消毒灭菌快,不会对人体和环境造成污染,不会对敏感医疗器械造成热损伤。

基本信息
专利标题 :
射频多电容耦合等离子体表面处理设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1981876A
申请号 :
CN200510126484.5
公开(公告)日 :
2007-06-20
申请日 :
2005-12-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王守国
申请人 :
中国科学院光电研究院
申请人地址 :
100080北京市海淀区上地四街1号院
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
周国城
优先权 :
CN200510126484.5
主分类号 :
A61L2/14
IPC分类号 :
A61L2/14  H05H1/48  H05H1/00  H01J37/32  
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学;卫生学
A61L
材料或消毒的一般方法或装置;空气的灭菌、消毒或除臭;绷带、敷料、吸收垫或外科用品的化学方面;绷带、敷料、吸收垫或外科用品的材料
A61L2/00
食品或接触透镜以外的材料或物体的灭菌或消毒的方法或装置;其附件
A61L2/02
应用物理现象
A61L2/14
等离子体,即离子化气体
法律状态
2009-12-02 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-08-15 :
实质审查的生效
2007-06-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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