用于等离子体处理表面的工艺

专利权的终止

摘要

在等离子体处理表面的工艺中，在具有入口和出口的介电壳体内产生非平衡大气压等离子体，通过该壳体工艺气体从入口流向出口。在至少部分由介质材料形成的容管从壳体出口向外延伸，其中容管的末端形成等离子体出口。待处理的表面位于等离子体出口附近，使得表面与等离子体接触并相对于等离子体出口而移动。

基本信息

专利标题：

用于等离子体处理表面的工艺

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN102355789A

申请号：

CN201110180474.5

公开（公告）日：

2012-02-15

申请日：

2005-11-03

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

利亚姆·奥奈尔彼得·杜宾沃尔特·卡斯塔格那

申请人：

陶氏康宁爱尔兰有限公司

申请人地址：

爱尔兰科克

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

秦晨

优先权：

CN201110180474.5

主分类号：

H05H1/24

IPC分类号：

H05H1/24

法律状态

2016-12-21 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101693223262
IPC(主分类) : H05H 1/24
专利号 : ZL2011101804745
申请日 : 20051103
授权公告日 : 20140611
终止日期 : 20151103

2014-06-11 ：

授权

2012-03-28 ：

实质审查的生效

号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101212132341
IPC(主分类) : H05H 1/24
专利申请号 : 2011101804745
申请日 : 20051103

2012-02-15 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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