脉冲高能量密度等离子体用于材料表面处理的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及一种脉冲高能量密度等离子体用于材料表面处理的方法，该方法使用常规的受控核聚变产生等离子体装置，样品放在真空室内对着等离子体枪口处，在真空室内真空度达１０-1-10-3帕，等离子枪电极上施加１．５－１００ｋｖ电压，充电后一部分能量释放快速脉冲进气阀动作，工作气体通过等离子体枪被击穿形成等离子体束，经被加热和加速并携带电极材料和等离子体束流作用在被处理材料表面，该方法实现气固共掺入被处理材料表面，改变材料性能。
基本信息
专利标题 ：
脉冲高能量密度等离子体用于材料表面处理的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1097223A
申请号 ：
CN93107530.0
公开（公告）日 ：
1995-01-11
申请日 ：
1993-07-03
授权号 ：
CN1038262C
授权日 ：
1998-05-06
发明人 ：
杨思泽李兵吴成鲁伟刘赤子
申请人 ：
中国科学院物理研究所
申请人地址 ：
100080北京市603信箱
代理机构 ：
中国科学院专利事务所
代理人 ：
王幼明
优先权 ：
CN93107530.0
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C8/36 H01J37/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2002-08-28 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1998-05-06 ：
授权
1996-04-03 ：
实质审查请求的生效
1995-01-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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