一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，包括真空外腔、真空内腔、颗粒搅拌机构及等离子体发生器，所述真空内腔设在真空外腔内，所述颗粒搅拌机构设在真空内腔内；所述真空外腔右侧设有真空抽气口及进气口，所述真空内腔包括反应仓及过滤网板，所述进气口与真空内腔右侧连通；所述等离子体发生器包括电极组及等离子体发生电源。本实用新型通过颗粒搅拌机构对粒子进行搅拌，处理均匀；同时设置真空外腔及真空内腔，密封良好，防止处理粒子外溢；在真空内腔设置过滤网板，可处理颗粒和粉体的粒径范围广，通过激发不同种类的等离子体对粒子表面进行亲水、疏水、包覆涂层等功能化处理。
基本信息
专利标题 ：
一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920433680.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-01
授权号 ：
CN209791522U
授权日 ：
2019-12-17
发明人 ：
欧阳军朱威
申请人 ：
深圳市奥普斯等离子体科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区宝龙街道宝龙社区宝龙四路2号安博科技宝龙厂区3号厂房1楼
代理机构 ：
深圳市中科创为专利代理有限公司
代理人 ：
梁炎芳
优先权 ：
CN201920433680.4
主分类号 ：
B01J19/08
IPC分类号 ：
B01J19/08 B01J3/03
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J19/00
化学的，物理的或物理—化学的一般方法；及其有关设备
B01J19/08
利用直接应用电能，波能或粒子辐射的方法；其所用设备
法律状态
2019-12-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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