脉冲高能量密度等离子体辅助多源复合材料表面改性装置
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种基于脉冲高能量密度等离子体的多等离子体源复合材料表面改性装置,包括:真空室、脉冲高能量密度等离子体枪、大功率真空阴极弧等离子体源、和热灯丝气体等离子体源,脉冲高能量密度等离子体枪和大功率真空阴极弧等离子体源分别对称安装于所述真空室的A(A’)、B(B’)端口处,热丝气体等离子体源设置在所述真空室的C端口处,所述真空室底部还安装有可调转速的旋转样品台D。本实用新型拥有三个等离子体源,实现在同一装置中引入多种等离子体机制,使得金属、气体离子同存,增强反应效率,提高成膜质量。适用于包括陶瓷材料在内的各种金属、非金属、有机、无机材料的表面沉积注入处理。
基本信息
专利标题 :
脉冲高能量密度等离子体辅助多源复合材料表面改性装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720309049.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-12-24
授权号 :
CN201228282Y
授权日 :
2009-04-29
发明人 :
杨思泽
申请人 :
杨思泽
申请人地址 :
100080北京市海淀区中关村南三街八号-139
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200720309049.0
主分类号 :
C23C14/22
IPC分类号 :
C23C14/22 C23C14/48 C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2016-02-17 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101646923085
IPC(主分类) : C23C 14/22
专利号 : ZL2007203090490
申请日 : 20071224
授权公告日 : 20090429
终止日期 : 20141224
号牌文件序号 : 101646923085
IPC(主分类) : C23C 14/22
专利号 : ZL2007203090490
申请日 : 20071224
授权公告日 : 20090429
终止日期 : 20141224
2009-04-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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