电容耦合型等离子体处理装置

专利申请权、专利权的转移

摘要

本发明提供一种电容耦合型的等离子体处理装置(100)，包括可设定为具有真空气氛的处理腔室和将处理气体供给腔室(1)内的处理气体供给部(15)。在腔室(1)内、第一电极(2)和第二电极(18)相对地配置。为了在第一和第二电极间的等离子体生成区域(R1)中形成高频电场，配置将高频电力供给至第一或第二电极的高频电源(10)。高频电场使处理气体变成等离子体。被处理基板(W)在第一和第二电极之间，由支撑部件(2)所支撑，使其被处理面与第二电极(18)相对。在等离子体生成区域(R1)周围的周围区域(R2)中，配置接地的导电性作用面AS，以扩展等离子体，进行调制，使得与等离子体实质上直流地结合。

基本信息

专利标题：

电容耦合型等离子体处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1783430A

申请号：

CN200510127554.9

公开（公告）日：

2006-06-07

申请日：

2005-12-05

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

桧森慎司今井范章堀口克己根津崇明松山昇一郎松丸弘树速水利泰永关一也酒井伊都子大岩德久杉安良和

申请人：

东京毅力科创株式会社;株式会社东芝

申请人地址：

日本东京

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

沙捷

优先权：

CN200510127554.9

主分类号：

H01L21/00

IPC分类号：

H01L21/00 H01L21/3065 H01L21/31 H01L21/20 C23C16/50 C23C14/34 C23F4/00 H01J37/32 H05H1/46

IPC结构图谱

H部——电学

H01

基本电气元件

H01L

半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件

H01L21/00

专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备

法律状态

2017-02-22 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101747229972
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2005101275549
登记生效日 : 20170204
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 东京毅力科创株式会社
变更后权利人 : 东京毅力科创株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京
变更后权利人 : 日本东京都
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 株式会社东芝
变更后权利人 : 无

2009-09-09 ：

授权

2006-08-02 ：

实质审查的生效

2006-06-07 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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