感应耦合等离子体清洗装置
授权
摘要

本实用新型涉及感应耦合等离子体清洗技术领域,尤其是感应耦合等离子体清洗装置,包括机体,机体的一侧开设有清洗室,清洗室的顶端安装有清洗腔,清洗腔的底端均匀安装有等离子发生头,清洗室的两侧均匀焊接有调节卡板,调节卡板均对称设置,调节卡板的顶端可放置放置板,清洗室的两侧中部对称开设有滑槽,滑槽的顶端安装有电机,电机通过输出轴连接有丝杆,丝杆的一端通过轴套安装在滑槽的底端,丝杆的外表面滑动连接有滑块,滑块的一侧焊接有固定板,固定板的底端对称焊接有卡块,放置板的顶端开设有与卡块相配合的卡槽。本实用新型能够避免放置板在清洗的工作过程中晃动,从而避免了放置板上的物体在进行清洗时晃动。

基本信息
专利标题 :
感应耦合等离子体清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020069722.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-13
授权号 :
CN212041846U
授权日 :
2020-12-01
发明人 :
周焱文
申请人 :
武汉普迪真空科技有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新四路40号葛洲坝太阳城23号楼101室
代理机构 :
上海精晟知识产权代理有限公司
代理人 :
周琼
优先权 :
CN202020069722.3
主分类号 :
B08B7/00
IPC分类号 :
B08B7/00  B08B13/00  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2020-12-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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