侧向扰流式感应耦合等离子体蚀刻机结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种侧向扰流式感应耦合等离子体蚀刻机结构，包括：提供第一腔体；提供第二腔体，形成于第一腔体的下方且相连通；设置至少一个第一进气口在第一反应腔室的顶面；设置至少一个第二进气口在第一反应腔室的外围且位于第二腔体顶面；以及多个第三进气口，在第二反应腔体的侧壁上且高于晶圆片顶面的位置。借由本实用新型的实施，可以改善气体分流效果不佳的情况，有效的调整气体分流，达到改变晶圆表面蚀刻率分布及提升外围浓度的功效。
基本信息
专利标题 ：
侧向扰流式感应耦合等离子体蚀刻机结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921945255.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-12
授权号 ：
CN211295032U
授权日 ：
2020-08-18
发明人 ：
林志隆蔡兆哲陈俊龙
申请人 ：
聚昌科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹县湖口乡胜利村光复南路16号
代理机构 ：
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
寿宁
优先权 ：
CN201921945255.X
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-08-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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