等离子体处理装置及蚀刻装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种等离子体处理装置及蚀刻装置，所述等离子体处理装置通过在蚀刻腔体内设置缓冲组件，所述缓冲组件用于对靠近所述排气管处的物质进行释缓以提高气压分布均匀性，所述缓冲组件包括第一缓冲组件和第二缓冲组件，所述第一缓冲组件位于所述第二缓冲组件与所述排气端的端面之间，所述第一缓冲组件、所述第二缓冲组件和所述端面的中心点均位于同一直线上；所述第一缓冲组件和所述第二缓冲组件均与所述蚀刻腔体的侧壁连接。本申请的等离子体处理装置提高了蚀刻腔体内各处气压的均衡性，尤其是均衡排气管处的气压，且还提高了排气管处的等离子体的分布的均匀性，进而提高蚀刻均一性。
基本信息
专利标题 ：
等离子体处理装置及蚀刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020923036.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-27
授权号 ：
CN212182267U
授权日 ：
2020-12-18
发明人 ：
张涛张彬彬伍凯义苏财钰向毅
申请人 ：
重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请人地址 ：
重庆市璧山区璧泉街道钨山路69号(1号厂房)
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
江舟
优先权 ：
CN202020923036.8
主分类号 ：
H01J37/02
IPC分类号 ：
H01J37/02 H01J37/305 H01J37/32
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
法律状态
2020-12-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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