一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置

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摘要

本发明公开了一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，它包括由右往左依次设置的光学器件正反面蚀刻装置、光学器件冷却装置和光学器件烘干及收集装置，所述光学器件正反面蚀刻装置包括机箱、设置于机箱顶部的顶盖、设置于机箱左右侧壁上的左输送装置和右输送装置；机箱内还设置有用于翻转光学器件的翻面机构，翻转机构位于左输送装置和右输送装置之间，翻面机构包括步进电机、筒体和固定板；光学器件冷却装置包括水箱、水泵、出水管、滚筒和弯折板。本发明的有益效果是：结构紧凑、极大提高光学器件生产效率、实现了在线刮除上下层保护膜、减轻工人劳动强度、能够对光学器件的正反面进行蚀刻。

基本信息

专利标题：

一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110880444A

申请号：

CN201911192401.0

公开（公告）日：

2020-03-13

申请日：

2019-11-28

授权号：

CN110880444B

授权日：

2022-04-12

发明人：

朱巧芬刘秀红张雷席思星

申请人：

河北工程大学

申请人地址：

河北省邯郸市邯郸经济技术开发区太极路19号

代理机构：

北京国坤专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

赵红霞

优先权：

CN201911192401.0

主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/32