等离子沉积设备

授权

摘要

本实用新型提供一种等离子沉积设备，包括POD喷灯组和POD机台，所述POD机台水平撑托玻璃棒并调节其围绕玻璃棒轴转动，所述POD喷灯组的出口朝向玻璃棒的表面设置且能够平移实现往复喷涂；所述POD喷灯组包括并排设置的主喷灯和若干去应力喷灯，所述主喷灯用以将反应物沉积至玻璃棒的表层，所述去应力喷灯用以通入去应力气流来去除玻璃应力。本实用新型通过掺氟沉积与去应力同步开展，可有效解决大厚度掺氟层的应力问题，避免出现掺氟层越厚越容易开裂的现象。

基本信息

专利标题：

等离子沉积设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921442850.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-30

授权号：

CN211078919U

授权日：

2020-07-24

发明人：

吴椿烽钱宜刚沈一春陈京京薛驰薛济萍

申请人：

中天科技精密材料有限公司;江苏中天科技股份有限公司

申请人地址：

江苏省南通市开发区中天路3号

代理机构：

深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司

代理人：

陈海云

优先权：

CN201921442850.1

主分类号：

C03B37/018

IPC分类号：

C03B37/018