真空蒸汽沉积设备
专利权的终止
摘要
一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构，并具有至少一个设置在坩锅上表面内的狭缝凹槽。所述至少一个狭缝凹槽具有从该坩锅上表面的一端到其另一端的长度。所述至少一个狭缝凹槽用作为用于容纳蒸发材料(掺杂材料等)的部分。可替换地，一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构，并具有多个设置在坩锅上表面内的孔。这些孔用作为用于容纳蒸发材料的部分。另外，该坩锅分成多个区域，在坩锅下表面之下为相应区域设置单独的电加热器，从而能通过这些电加热器为相应区域单独控制温度。
基本信息
专利标题 ：
真空蒸汽沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1807677A
申请号 ：
CN200610006228.7
公开（公告）日 ：
2006-07-26
申请日 ：
2006-01-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
佐藤惠一小林敏郎加藤光雄神川进和田宏三
申请人 ：
三菱重工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
车文
优先权 ：
CN200610006228.7
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2014-03-19 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101579933104
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL2006100062287
申请日 : 20060123
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20130123
号牌文件序号 : 101579933104
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL2006100062287
申请日 : 20060123
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20130123
2009-06-24 ：
授权
2006-09-20 ：
实质审查的生效
2006-07-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
