用再装填的储存器进行真空沉积的装置和相应的真空沉积方法
专利权的终止
摘要
本发明涉及真空沉积装置，其包括适用于接受待处理的基材(2)并置于真空下的外壳(1)以及至少一个用于产生有机材料的蒸汽的分子束的注射器(110)。具有阀门(20)的注射器穿过外壳的底部并且包括适用于接受包含有机材料的可移动的储存器(10)的喷嘴(120)。主要加热装置(50)加热储存器，而次要加热装置(30，40)加热注射器，从而建立温度梯度。
基本信息
专利标题 ：
用再装填的储存器进行真空沉积的装置和相应的真空沉积方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101111625A
申请号 ：
CN200580047452.4
公开（公告）日 ：
2008-01-23
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J－L·居约克斯F·施特梅伦P·布沙伊卜
申请人 ：
阿顿公司
申请人地址 ：
法国塞纳河畔卡里耶尔
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
过晓东
优先权 ：
CN200580047452.4
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2014-02-05 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101567531278
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL2005800474524
申请日 : 20051207
授权公告日 : 20100929
终止日期 : 20121207
号牌文件序号 : 101567531278
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL2005800474524
申请日 : 20051207
授权公告日 : 20100929
终止日期 : 20121207
2010-09-29 ：
授权
2008-03-12 ：
实质审查的生效
2008-01-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
