一种衬底基板沉积面朝上放置的有机真空沉积系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种衬底基板沉积面朝上放置的有机真空沉积系统，包括真空腔体，所述真空腔体的底部贯穿有样品架，所述样品架的表面与真空腔体固定连接，所述样品架的顶部固定连接有衬底基板，所述衬底基板的顶部活动连接有薄膜沉积衬底，所述薄膜沉积衬底的顶部活动连接有遮挡板。本实用新型通过衬底基板、薄膜沉积衬底、遮挡板和样品架的配合使用，能够实现解决有机功能器件中使用遮挡板过程中遮挡板因重力而变形，从而导致图案失真的情况，而且有利于放置多个任意形状的衬底而无需固定，能够方便地取放样品，更好的增加了装置的便利性，提高了纳米镀膜工作的效率，更好的增加了装置的实用性。

基本信息

专利标题：

一种衬底基板沉积面朝上放置的有机真空沉积系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922434762.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-30

授权号：

CN212025442U

授权日：

2020-11-27

发明人：

王燕东王文冲迟力峰

申请人：

苏州驰鸣纳米技术有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号B07楼327-6单元

代理机构：

宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

刘慧

优先权：

CN201922434762.3

主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

C23C14/24 C23C14/50 C23C14/04