有机物沉积装置及方法
授权
摘要
本发明的实施例涉及一种有机物沉积装置及方法。本发明的有机物沉积装置包括:基板支撑部,用于支撑基板;掩膜支撑部,以与所述基板相面对的方式支撑掩膜;蒸发源,以与所述掩膜相面对的方式布置,且加热有机物而使该有机物蒸发;以及掩膜清洗部,布置于所述蒸发源的一侧,且向所述掩膜照射激光。
基本信息
专利标题 :
有机物沉积装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN108374146A
申请号 :
CN201810054447.5
公开(公告)日 :
2018-08-07
申请日 :
2018-01-19
授权号 :
CN108374146B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
孙镇石朴宰奭全镇弘金明圭
申请人 :
三星显示有限公司
申请人地址 :
韩国京畿道龙仁市
代理机构 :
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 :
李盛泉
优先权 :
CN201810054447.5
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24 C23C14/12 C23C14/04 B08B7/00
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-15 :
授权
2020-02-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20180119
申请日 : 20180119
2018-08-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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