沉积方法及设备

专利申请权、专利权的转移

摘要

本发明公开了一种沉积方法及设备，该沉积方法及设备在用于将材料沉积到基板上的过程中提供了均匀的沉积速率和优良的再现性。该沉积方法包括：准备基板，薄膜被沉积在该基板上；准备直线源，该直线源包括多个排成直线的加热熔罐；和使直线源旋转，同时将沉积材料沉积在基板上。

基本信息

专利标题：

沉积方法及设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1769513A

申请号：

CN200510117363.4

公开（公告）日：

2006-05-10

申请日：

2005-11-03

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

柳承润

申请人：

三星SDI株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司

代理人：

郭鸿禧

优先权：

CN200510117363.4

主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

C23C14/24 C23C14/54

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C14/00

通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆

C23C14/22

以镀覆工艺为特征的

C23C14/24

真空蒸发

法律状态

2012-12-12 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101482345810
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL2005101173634
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 三星移动显示器株式会社
变更后权利人 : 三星显示有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道
变更后权利人 : 韩国京畿道龙仁市
登记生效日 : 20121107

2010-06-16 ：

授权

2009-02-18 ：

专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 三星SDI株式会社
变更后权利人 : 三星移动显示器株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道
变更后权利人 : 韩国京畿道
登记生效日 : 20090116

2007-10-03 ：

实质审查的生效

2006-05-10 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

文件下载

暂无PDF文件可下载