原子层沉积方法及设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种原子层沉积方法和设备，其将微波和前驱体气体均导入同一喷头，再通过同一喷头导入沉积室，可通过微波增加喷头中的前驱体气体的动能，减少前驱体气体在喷头中的沉积，减轻沉积室中的前驱体气体残留问题，提高前驱体气体利用率，提高沉积效率。且通过喷头对微波的空间限制，可提高微波的集中度，提高微波能量利用率，提高对前驱体气体的加热效果，提高提供至沉积室的前驱体气体的动能，提高系统效能。
基本信息
专利标题 ：
原子层沉积方法及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481089A
申请号 ：
CN202111623337.4
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李思倩周毅潘杰周鹏毛格
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 ：
北京成创同维知识产权代理有限公司
代理人 ：
蔡纯
优先权 ：
CN202111623337.4
主分类号 ：
C23C16/34
IPC分类号 ：
C23C16/34 C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/30
沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C16/34
氮化物
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/34
申请日 : 20211228
申请日 : 20211228
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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