一种原子层沉积设备和原子层沉积监测系统
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摘要

本实用新型提出一种原子层沉积设备和原子层沉积监测系统,其中,原子层沉积设备包括一腔体,所述腔体内设有基材载台,用于放置待镀膜的晶圆。所述腔体的底部开设有抽气口,所述抽气口外接有第一抽气泵,用于将腔体内的前驱物或冲洗气体抽出。所述腔体内还设有至少一个喷头,所述喷头外接管路,所述管路连接前驱物的储蓄瓶和冲洗气体的储蓄瓶,所述储蓄瓶与管路之间设有开关阀,打开对应的开关阀,即可向腔体内充入前驱物或冲洗气体。所述前驱物至少有两种,且至少一种前驱物对应的开关阀设有阀门开关感应器,通过阀门开关感应器采集对应的开关阀的开关次数,通过与预设的次数对比,即可判断镀膜厚度的误差大小,从而对镀膜厚度进行补正。

基本信息
专利标题 :
一种原子层沉积设备和原子层沉积监测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021704846.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-14
授权号 :
CN212770950U
授权日 :
2021-03-23
发明人 :
林俊成黄致开
申请人 :
鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请人地址 :
福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区洪溪南路9号A栋102
代理机构 :
厦门律嘉知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
温洁
优先权 :
CN202021704846.0
主分类号 :
C23C16/455
IPC分类号 :
C23C16/455  C23C16/52  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-03-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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